Hexacomm es un projecte europeu que estudia els riscos de l'exposició ocupacional a nanopartícules, en el marc del VII Programa Marc. Encara que l'ús industrial de les nanopartícules és relativament recent, l'exposició laboral a elles està creixent i pot donar-se en multitud d'indústries.
Recollida de mostres a una empresa.HEXACOMM (acrònim de l'anglès Human Exposure to Aerosol Contaminants in Modern Microenvironments), uneix dotze tesis doctorals centrades en la qualitat de l'aire en ambients interiors finançades pel programa Marie Curie del VII Programa Marc. Dues d'aquestes tesis es desenvolupen a l'Institut de Diagnòstic Ambiental i Estudis de l'Aigua (IDAEA) del CSIC, en el grup de Geoquímica inorgànica atmosférica, dirigit pels científics Xavier Querol i Andrés Alastuey.
Encara que l'ús industrial de les nanopartícules és relativament recent, l'exposició laboral a elles està creixent i pot donar-se en multitud d'indústries. Cada vegada hi ha més empreses que fabriquen o usen nanopartícules. És el cas de les nanopartícules de diòxid de titani, usades com a filtre en cremes solars, o les nanopartícules d'òxid de plata, que s'apliquen en teixits per evitar olors. O les partícules usades en pigments o en tintes d'impressora. Però també hi ha processos industrials on es generen nanopartícules de forma no intencionada. Seria el cas, per exemple, de processos en els es tritura material ceràmic per obtenir grans de la mida de micròmetres i que poden generar emissions d'un pols residual format, de fet, per diminutes nanopartícules. L'augment en l'ús de les nanopartícules també ha augmentat el risc d'exposició a elles.
Els danys derivats d'aquesta exposició depenen de diversos factors, entre ells de la seva composició química i morfologia, ja que en funció de la seva grandària poden penetrar per diferents vies (respiratòria o dèrmica). Cal tenir en compte que un nanòmetre equival a 0,000001 mil·límetre: és molt més petit que un cabell humà, el diàmetre és, en el cas d'un cabell fins d'al voltant de 0,025 mil·límetres.
Mar Viana, investigadora del CSIC a l'IDAEA, explica que la investigació per aquesta tesi doctoral, en el grup d'investigació del Professor Xavier Querol, se centrarà especialment n partícules amb diàmetres inferiors a 100 nanòmetres (0,0001 mil·límetres). Una esquerda minúscula, un dipòsit que no tanca hermèticament, o una petita variació en una campana extractora són causes potencials de fuites de nanopartícules. "Agafem mostres en les indústries participants. L'instrumental utilitzat és similar al que s'usa per controlar la contaminació atmosfèrica, lleugerament adaptat."
Els danys derivats de l'exposició laboral a nanoparticules depenen de factors com la seva composició química i morfologia
Per avaluar el risc, explica aquesta investigadora, es mostreja l'aire, molt a prop del lloc de la cadena de producció, per detectar possibles fuites del procés industrial cap a l'exterior, tant de partícules que s'estan fabricant o usant com de partícules que es generin de forma inesperada. Potencialment, les fuites poden donar-se tant en el moment de la producció de les nanopartícules, com en el moment de la seva aplicació sobre un altre objecte (per exemple, els recobriments dcone nanotubs de carboni) o en el moment de destrucció o reciclatge dels residus que contenen nano partícules.
Així mateix, una part essencial del treball és assegurar-se que les nanopartícules de l'ambient no s'han infiltrat des de l'exterior, a fi de descartar com fugida. Altres passos importants és analitzar la composició química i física de les nanopartícules. "Encara que es conegui la composició de les nanopartícules que es fabriquen, per la seva gran superfície específica són generalment molt inestables i en alliberar en l'aire poden aglomerar entre elles o unir-se a altres compostos", apunta Mar Viana.
En aquest projecte, que es desenvolupa fins al 2016, els investigadors de l'IDAEA-CSIC col·laboren amb la Universitat d'Hèlsinki, amb l'Institut de Salut Ocupacional Finès i amb l'Institut de Processos Químics Fonamentals de Praga.
Més informació: http://hexacomm.nilu.no/